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第277章 EUV光刻机与DUV光刻机!(1 / 1)

当然,此时的绝大部分记者们并不知道如果想要生产90纳米和65纳米芯片。

其实不一定需要采用第5代浸没式光刻机技术,直接研发采用第四代的ArF干式光刻机技术也行。

因为第四代的ArF干式光刻机的光源波长是193nm,这193nm光源波长理论上最高是能生产65纳米芯片的。

但做事不能考

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