在arfi准分子激光器研发成功之前，bsec光刻机工作台研究所继续研发适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，与gca研发成功的双工作台系统进行对比，取长补短，为研发适应浸没式光刻系统的磁悬浮式双工作台系统储备技术。
根据九二年修订的专利法，国内的发明专利保护期限变成了20年，实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年，均自申请之日起计算。
只要重新申请的新发明专利比前一个发明专利更先进，发明专利的保护期限可以一直延长下去，形成事实上的技术垄断，就像windos系统！
“艾德里安总经理，申请明天的股票停牌，邀请sematech专家组对gca3500b进行技术认证，拿到认证鉴定后，申请公司发明专利，邀请ii、amd、hp、三星和台积电等半导体制造企业参观gca3500b光刻机样机。”
从余建国的口里知道，gca今天上午的股票小幅下跌，特大利好消息没有泄密！
“好的，董事长！”
“艾德里安总经理，我们新研制gca3500b光刻机的生产成本是多少万美元？出厂价打算定多少？”
一台nikon3500b光刻机，市场售价如今是3700万美元。
“孙总，据初步核算，成本要1800万美元，市场售价定在4000万美元。”
“艾德里安总经理，一旦消息传出去，我预测nikon3500b光刻机肯定会大幅降价，我们的市场售价就卖3500万美元，薄利多销，让利于客户。”
如今，nikon光刻机设备公司正在研制8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机，一旦研制成功就会挤压gca3500b的市场份额。
“好的，孙董事长！”
看我的一九八五。