“还有这儿，你们也都知道，沪都微电子的ssc600杠10系列光刻机，官方数据是能够满足12寸晶圆110n精度光刻需求的。锡州一家公司，包括台积电的金陵工厂，用同款的光刻机甚至实现了90n级别的实验室生产。”
康硕接着说道：“我们只能完成130n的量产，问题在哪儿呢？这儿！掩膜版与与晶圆的对准流程就是我们整个生产过程这个木桶最短的那根木板，解决了这个问题，至少达到官方数据的水准，量产110n是毫无问题的。”
听康硕说这些，在场的技术核心内心毫无波动。
材料热胀冷缩的特性就会造成掩膜版和晶圆片的对准精度误差，他们早就发现了，也知道问题出在这儿。
但发现问题又能怎么样？解决不了还不是白搭。
虽然之前聊的很好，很投机，康硕也很有水平，但一个没有任何实操经验的本科生再有水平又能高到哪儿去呢？顶多跟他们差不多罢了。
所以，这些工程师们并不认为康硕能解决这个问题，听康硕说这些的时候，他么的内心甚至毫无波澜。
康硕略一寻思，就知道这群人在想什么了，想当年在公司里遇到大牛的时候，他内心也如此嘀咕过来着，于是，他顿了顿，接着说道：“要想解决这个问题其实很简单。”
“嗯？简单？”几名技术核心同时露出了茫然的神色：印象中，这孩子不是爱说大话的人呐！
“拿两个标准片，使用同一组晶圆，一个对准图形的第一掩膜版，另一个对准图形的第二掩膜版。”
康硕没有理会他们心里在嘀咕什么，事实胜于雄辩，他接着说道：“然后，我们沿光刻系统y方向整体偏移，预设一个偏移距离，然后曝光显影。
这个时候，分别测量第一标准片和第二标准片某个重复区域嵌套的图形之间的相对偏移误差，将第一误差和第二误差的差值作为掩膜版对准图形的补正参数，以此，我们就能减小这个误差，提升整体的制造工艺。”
开始的时候，这些人还有些嗤之以鼻，但康硕越说他们越是心惊。